Comment réduire les défauts de bulles dans la stratification des rubans adhésifs double face?
La formation de bulles reste l'une des préoccupations de qualité les plus courantes dans les applications de bandes adhésives haute performance. Pendant le laminage, l'air piégé peut créer des défauts visibles, réduire la zone de collage efficace et avoir un impact négatif sur la fiabilité à long terme.
Les approches traditionnelles se concentrent souvent uniquement sur l'augmentation de la douceur de l'adhésif ou sur l'application d'une pression de laminage plus élevée. Bien que ces méthodes puissent temporairement réduire les bulles visibles, elles introduisent souvent de nouveaux défis tels que l'écoulement de l'adhésif, l'exsudation sur les bords ou l'instabilité dimensionnelle.
Celadon adopte une approche d'ingénierie plus complète en optimisant à la fois la formulation de l'adhésif et les processus de fabrication.
Le système adhésif est conçu pour améliorer le comportement de mouillage et les caractéristiques de libération de l'air, tandis que les paramètres de revêtement et de stratification sont soigneusement ajustés pour minimiser l'enfermement d'air pendant la production.
En conséquence, les tailles de micro-bulles peuvent être contrôlées en dessous de 0,5 mm, améliorant ainsi de manière significative la qualité d'apparence et les performances de liaison.
Cette technologie est particulièrement bénéfique dans les applications de semi-conducteurs, d'électronique, de films optiques et de stratification industrielle où même de petits défauts de surface peuvent affecter le traitement en aval et la qualité du produit final.
Le résultat est une ligne de liaison plus propre, un rendement de production plus élevé et une confiance accrue des clients dans les performances à long terme du produit.
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CMPDS295
Introduction recommandée Le ruban de montage CMP de Celadon est un ruban adhésif double face haute performance spécifiquement conçu pour les applications d'assemblage de tampons de polissage de semi-conducteurs. Le produit a été utilisé avec succès au sein de la chaîne d'approvisionnement en semi-conducteurs de Taïwan pendant plus de 10 ans, offrant des performances de liaison fiables pour les tampons de polissage CMP dans des environnements de production exigeants. Doté d'une construction en adhésif acrylique épais, d'un film porteur PET de précision et d'une haute résistance au cisaillement, le ruban aide les fabricants à améliorer la qualité d'installation des tampons, à réduire les défauts de bulles et à maintenir des performances de polissage stables tout au long du cycle de vie du processus.
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